Utilizzo di un fascio polarizzato nel controllo dello spessore di strati dielettrici durante la crescita

Partendo dalle conoscenze acquisite sul comportamento ottico dei materiali in film sottile di cui si parla in "Base di partenza scientifica", si vuole ideare e realizzare un sistema di controllo dello spessore di film dielettrici durante la crescita, basato sulle differenti intensita' riflesse dalle due polarizzazioni di un fascio luminoso polarizzato ed incidente sulla superficie del campione.

Si vuole ideare e realizzare un sistema di controllo dello spessore di film dielettrici durante la crescita. Questo sistema deve essere in grado di dare in tempo reale l'informazione dello spessore dello strato che si accresce, deve essere insensibile alle variazioni di intensita' luminosa della sorgente utilizzata e deve essere in grado di analizzare lo strato dalla faccia nella quale avviene l'accrescimento. Inoltre deve essere in grado di analizzare superfici molto ridotte, dell'ordine del mm quadro. Il sistema dovra' essere montato su un apparato di deposizione di strati sottili, gia' presente funzionante nel Laboratorio di Tecniche Laser del DIEET. Per raggiungere l'obiettivo proposto si intende utilizzare un fascio luminoso generato da un laser a semiconduttore, polarizzato ed orientato in modo tale che sulla superficie dello strato arrivino entrambe le polarizzazioni. Il fascio riflesso dovra' essere scomposto nelle due polarizzazioni, ognuna delle quali dovra' essere inviata ad un differente rivelatore. Dall'elaborazione delle informazioni provenienti dai due rivelatori ed eventualmente di quelle provenienti da un terzo rivelatore di riferimento, dovra' essere possibile ottenere in tempo reale, con l'ausilio di un computer, l'informazione dello spessore raggiunto. Una prima fase prevede la simulazione al computer del funzionamento dell'apparato al fine di ottimizzare i parametri di funzionamento.