Resistenza degli elementi meccanici: Fatica nei processi aleatori - Sviluppo di tecniche per l'analisi fotoelastica assistita

Progetto: Research project

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Description

L'obiettivo della prima sezione è quello di migliorare la precisione ed estendere i campi di applicabilità dei metodi che legano i parametri della densità spettrale di potenza del processo di sollecitazione al danneggiamento di fatica atteso sul componente. Si intende effettuare un'ampio numero di simulazioni numerica di processi di sollecitazione al variare dei 4 parametri della densità spettrale di potenza da cui dipende il danneggiamento di fatica e determinare l'effetto dei 2 parametri trascurati nel metodo già proposto mediante un'analisi dei risultati delle simulazioni. A questo fine è stato realizzato un software in grado di generare le PSD adatte. Anche l'estensione del metodo ad altri casi di interesse pratico richiede un ampio lavoro di simulazione ed analisi dei risultati. L'obiettivo della seconda sezione è lo sviluppo di nuove tecniche di analisi fotoelastica assistita che sfruttino i metodi a variazione di fase con l'uso di luce bianca, capaci superare per precisione e possibilità di automazione i metodi già sviluppati. Si intende sviluppare una tecnica ibrida basata sull'uso congiunto di luce bianca (tipo metodo RGB) e variazione di fase. Tale tecnica permette di evitare l'unwrapping del metodo a variazione di fase utilizzando le informazioni provenienti dall'uso dei colori. Una prima fase di messa a punto ha fornito risultati promettenti ed è in corso un approfondimento delle grandezze di influenza del metodo. Si intende effettuare una serie di prove sperimentali per valutare i limiti di precisione ed applicabilità del metodo e affinare le procedure software del metodo già parzialmente sviluppate.

Layman's description

Resistenza degli elementi meccanici: Fatica nei processi aleatori – Sviluppo di tecniche per l’analisi fotoelastica assistita
StatoAttivo
Data di inizio/fine effettiva1/1/04 → …

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